SCREEN单片式半导体清洗设备SU3100具有8个内置腔室，吞吐量能够达到300wph

设备描述及主要配置机台针对4寸晶圆后端制程设计，用于单片清洗

SCREEN二手清洗设备WS-820L，针对8英寸晶圆的高通量批量清洗系统可实现灵活的生产线配特点：1.传输类型选择WS-820L用于200毫米晶圆并进行无载体...

SUSSMicroTec的半自动湿处理系统AD12为水介质应用提供了的清洁和开发功能

关键应用：栅极预清洗RCA清洗光阻去除氧化硅腐蚀氮化硅腐蚀CoSix选择性腐蚀产品优势：1、占地面积小，将外部unit集成在设备内部来减小整体的占地面积

随着半导体芯片工艺技术的发展，工艺技术节点进入28纳米以及14nm等更*等级，随着工艺流程的延长以及越趋复杂，每个晶片在整个制造过程中需要超过200道清洗步骤，...